Q1：晶圓表面瑕疵是怎么產生的？

晶圓經過一系列制造加工工藝后，會不可避免的在其表面相應層中引入諸如：顆粒異物、劃痕、缺失等缺陷，也有本身材質存在的缺陷。顆粒是可能引入的工序有刻蝕、拋光、清洗等。冗余物缺陷主要來自于生產加工中晶圓表面的灰塵、空氣純凈度未到達標準以及加工過程中化學試劑等。

Q2晶圓表面缺陷會造成什么影響？

顆粒異物在光刻時會遮擋光線，造成集成電路結構上的缺陷，污染物可能會附著在晶圓表面，造成圖案的不完整，影響芯片的電氣特性。

Q3晶圓表面瑕疵用什么檢測？

表面瑕疵檢測一般有人工目視、機器視覺檢測，光學顯微鏡掃描檢測等等

Q4晶圓表面瑕疵有多大？

晶圓表面瑕疵小到幾十納米的微小顆粒，大到幾百微米的灰塵都有